views:0 author:Site Editor Tempus publish: 2023-09-07 origin:Site
Cum continua progressu industriae electronicorum, hydrides in variis campis magis magisque usitatae sunt, ut gravida, materia et packing.Innovatione technologica non solum adhibita est, sed etiam notabiles contributiones ad technologiam electronicarum technologiarum explicandam adhibita est.
Lithium aluminium hydride late adhibetur ut materia positivi electrode pro lithio-ion gravida ad meliorem densitatem et effectum energiae repono.Praebere potest altam specificam capacitatem et vitam cycli longi, unde fit in longiore pugna vita et densitate superiori energiae.
Lithium borohydride pro additivo in nonnullis materiis magneticis electronicis, ut materiae magnetis permanentis.Potest augere campum magneticum vires et proprietates magneticae materiae.Potest etiam adhiberi ut additamentum in electronicis materiis packaging, ut scelerisque conductivity et mechanicas vires materiarum sarcinarum et electronicarum componentium defendat.Lithium borohydride communiter etiam adhibetur in praeparatione materiae semiconductoris.Adhiberi potest ad doping et immutare proprietates electricas materiae semiconductoris, meliori faciendo machinis semiconductoris.
Lithium deuteridis sicut remouens et purgans agens in processu laganae Pii productionis adhiberi potest.In fabricandis semiconductoribus, lithium deuteridum ad materiam organicam, oxydatum et immunditias e superficie laganae pii removendas adhiberi potest, ut puritatem et qualitatem laganae siliconis augeat.Potest etiam adhiberi ad investigationem et modificationem materiae semiconductoris, mutando cancellos structurae, processum incrementum crystallum, et proprietates electronic materiarum ad perficiendam ordinationem et optimizationem consequendam.
Lithium deuteride uti potest ut materia tenuis pelliculae optica membranae efficiens.In fabricandis semiconductoribus, lithium deuteridum ad membranas tenues praeparandas cum proprietatibus opticis specificis, ut in speculis, filtramentis, etc., ad usum in machinis opticis et sensoriis.Lithium deuteridum magni ponderis munus agit sicut etchanther in electronica trabe etching processu in fabricando semiconductore.Electron trabes engraving est ars microfabricationis communiter adhibita ad formas et structuras semiconductoris fabricandas.
Hydride Lithium in processibus ceramicis stabiliens adhibetur, quae proprietates materiae ceramicae emendare potest, ut eorum duritiem et stabilitatem scelerisque augens.Adhiberi etiam potest ad membranas opticas, ad membranas tenues praeparandas cum indice refractivo et transmissione specifica, et late in campis adhibentur sicut cogitationes opticae et sensoriis opticis.
Trisec-butyl lithium borohydride uti potest sicut unum e praecursoribus in processu incrementi semiconductoris tenuis membranae.Adhiberi potest ut praetractatio agentis in superficie subiectae in depositione vaporum chemicorum (CVD) vel vaporum corporis (PVD) ad oxydatum et immunditiam e superficie removendum et incrementum GENERALIS cinematographici promovendum.
In fabricandis semiconductoribus, moderandis ac moderandis argumenta immunditiarum magni momenti est.Trisec-butyl lithium borohydride adhiberi potest ut immunditia dispositionis agentis ad immunitates removendas sicut oxygeni, vaporum aquaticum, et nitrogenium, ita emendans puritatem et effectus materiae semiconductoris.
Nitrogenium calcium hydride humilis late etiam in industria electronic ad conficiendas materias ceramicos electronicas adhibetur.Ceramica electronica species sunt summus effectus ceramicae materiae adhibitae in apparatu notitiarum electronicarum, ut ceramicos piezoelectric, ceramicos ferroelectric etc. Hydride humilis calcium nitrogenium adhiberi potest ut materia rudis momenti ad componendas has materias electronicas ceramicas.Humilis NITROGENIUM calcii hydride adhiberi potest etiam ad conficiendas materias electronicas packaging.Materiae electronicae packaging adhibentur ut partes electronicas protegant ac defigant, ut astulae semiconductores, tabulae ambitus, etc.
Minimum calcium hydride NITROGENIUM agere potest cum praecursoribus metalli ad formandum membranas metallicas.Tenues membranae metallicae late utuntur in industria semiconductoris in praeparandis machinis sicut electrodes, ducit, et connexiones.
Humilis NITROGENIUM calcii hydride adhiberi potest in chemicis mechanicis perpoliendis superficiebus fabricationis semiconductoris processus ad immunditias removendas et superficies lenis.Condiciones alcalinas aptas praebere potest, effectus expolitio emendare, lenitatem et lenitatem superficiei materialis curare.
